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在反复的过程中,晶粒细化的一般过程为:首先,晶粒被粉碎成一系列具有小角度界面的亚晶,亚晶沿着一定方向拉长形成带状组织,亚晶带宽度一般为几微米或亚微米;然后,亚晶被继续破坏,开始出现部分具有大角度界面的等轴晶组织;后,亚晶带消失,显微组织主要为具有大角度晶界的等轴晶组织。 铝卷厂家谈等通道转角对对显微组织的作用等通道转角对于纯金属、合金、金属间化合物等具有显著的晶粒细化效果,可以0.2一0.3um尺寸的超细等轴晶组织。研究各工艺路线对晶粒细化的作用应综合考虑剪切面、晶体结构和变形织构间相互作用,因为相邻道次间剪切面的夹角今随着工艺路线的不同而变化。 以纯铝为例,路径Bc比A、C路径更容易等到等轴晶粒,而路径A比Bc和A路径更容易的到大角度晶界,而细化晶粒的效果是路径Bc哪。对于密排六方结构的镁和镁合金,由于其主滑移发生在(000晶面,而在1120晶向是镁的易滑移方向,所以对于镁合金,为快的晶粒细化效果,应采用路径Bc。 例如,透射电镜可观察到等通道转角Al一Cu一0.SZr等轴晶组织的扩展厚度消失形貌,而该形貌在退火后消失;这种扩展与晶界处存在大量的弹性应变和晶体点阵的扭转有关,且测定了ECAP纯Cu的晶界附近的弹性应变,结果表明这。
电化学沉积陶瓷膜在难氧化铝合金的研究方面取得了一些进展,但仍存在很多限制因素,如电源设备投资大,氧化电流大,氧化时间较难控制等。并详细研究了电解工艺参数对膜层性能的影响,同时通过SEM,XRD,EDS等表面分析分析和研究了膜层的形貌、成份和结构。 研究工作在电化学沉积陶瓷膜基础上,保留了膜层优异的性能,克服了其在电源设备、自动控制及能耗成本方面的不足。施压方式从较高直流或非连续阳极电压变更为滤波直流电压,电压也从高达几百伏降至了50V左右,大大降低了能耗,自动控制及生产性进一步。 本研究选用了、硼酸及磺基水杨酸三种主要氧化电解质,并配以成膜促进剂和成膜添加剂,组成复合电解液。将铝及其合金材料置于此种复合电解液中,采用滤波直流电压方式,对其进行阳极化处理,可在铝及其合金表面形成一层、灰色或香槟色系的阳极氧化膜。 氧化膜具有优异的耐腐蚀性能和装饰性能,且具备很好的陶瓷光泽。详细研究了该工艺的阳极氧化特征、电解液组分以及工艺参数对膜层性能的影响。并采用了电子扫描显微镜(SEM)分析了膜层的微观形貌。本严格遵循相关法律法规规定,络,如有请告知。
铝卷厂家生产的硬磁盘毛料与基片除罐身料外,铝卷轧制厂的另一种典型产品是计算机硬磁盘毛料与基片(harddiskblanksandsubstrates)。磁盘车间是的,高度洁净的,由原来的厂改造而成。铝卷厂的磁盘毛料与基片品质了全用户的信赖,不但占有的国内市场,而且市场的占有率高达60%。 铝卷轧制厂生产磁盘毛料直径有140mm,90mm,45mm,35mm等多种,用两台压力为3MN压力机落料。小毛料的厚度为1.9-2.1mm,大毛料的厚度为4mm。目前,该厂的毛料产量约为2亿片每年。磁盘基片车间有十几台精密磨床,将基片磨到所需的粗糙度。 在处理基片上一层NiP膜作为底层后,再均匀地涂一层磁性膜。研究中心出了一种含有Cu或Zn的磁盘合金KS5D86。该合金有优异的表面处理性能,可均匀形成吸附力很强的NiP薄膜,在上了广泛的应用。它有很强的抗冲压力,在个人计算机与计算机磁盘中有着大量的应用。 可作为硬磁盘基片的材料还有玻璃、钦、碳素等,但铝合金由于其优异的性能,从开始应用的那天起至今仍在硬磁盘领域占有统治地位。这些性能是:无磁性;良好地可切削性;可长期保持表面光洁度,以维持低的漂浮高度(flyingheight);密度低,能适应高速;材料成本也低。
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