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各色系电解液组成如下:a)、系列:6-8g/L，促进剂5-10g/Lb)、灰色系列:硼酸30-40g/L，促进剂5-10g/L，添加剂A0.5-2.0g/Lc)、香槟色系列:磺基水杨酸60-70g/L，添加剂B5-8g/L,Na2WO40.5-1-0g/L研究出一种适合硬铝合金阳极氧化处理的工艺。 搅拌对膜层性能有一定影响，和灰色系列采用弱搅拌，香槟色系列则采用强搅拌。将硬铝合金(202置于由硼酸等组成的复合电解液中，采用恒电压氧化，可在其表面形成一层深灰色氧化膜层，该膜层均匀，富有陶瓷光泽，具有较好的硬度和耐腐蚀性能。 工艺研究表明，前处理对氧化影响较大，物理方法前处理对成膜不利，一般采用化学处理方式;氧气温度要控制在在25℃以下;氧化峰值电流越大，膜层越厚;X射线能(EDS)测试表明，膜层主要组成元素为，同时含有少量P,S和C，没有检测到Cu元素。 X射线衍射(XRD)相分析表明，膜层主要呈非晶态;表面和截面扫描电镜分析表明，膜层表面呈多孔状，孔径约为20nm;孔壁伸向基底，但不垂直于基底;孔壁不连续，像是由细小颗粒堆积而成。电化学研究和SEM分析表明，电解液组分对膜层性能影响较大，只有在三组分共同作用下，才能形成理想膜层。
在反复的过程中，晶粒细化的一般过程为:首先，晶粒被粉碎成一系列具有小角度界面的亚晶，亚晶沿着一定方向拉长形成带状组织，亚晶带宽度一般为几微米或亚微米;然后，亚晶被继续破坏，开始出现部分具有大角度界面的等轴晶组织;后，亚晶带消失，显微组织主要为具有大角度晶界的等轴晶组织。 铝卷厂家谈等通道转角对对显微组织的作用等通道转角对于纯金属、合金、金属间化合物等具有显著的晶粒细化效果，可以0.2一0.3um尺寸的超细等轴晶组织。研究各工艺路线对晶粒细化的作用应综合考虑剪切面、晶体结构和变形织构间相互作用，因为相邻道次间剪切面的夹角今随着工艺路线的不同而变化。 以纯铝为例，路径Bc比A、C路径更容易等到等轴晶粒，而路径A比Bc和A路径更容易的到大角度晶界，而细化晶粒的效果是路径Bc哪。对于密排六方结构的镁和镁合金，由于其主滑移发生在(000晶面，而在1120晶向是镁的易滑移方向，所以对于镁合金，为快的晶粒细化效果，应采用路径Bc。 例如，透射电镜可观察到等通道转角Al一Cu一0.SZr等轴晶组织的扩展厚度消失形貌，而该形貌在退火后消失;这种扩展与晶界处存在大量的弹性应变和晶体点阵的扭转有关，且测定了ECAP纯Cu的晶界附近的弹性应变，结果表明这。
电化学沉积陶瓷膜是近年来发展起来的，一种有效铝卷铝板基材料抗高温氧化、耐磨耐腐蚀性能的新型表面处理。电化学沉积陶瓷膜较之于微弧氧化，具有仪器设备投资少、生产工艺简单、一次成膜面积大、加工成本低等特点，并且具有很好的装饰性能，引起了表面处理界的广泛注意。 研究小组经过近10年的研究发现:将铝及其合金材料置于一定混合电解液中，采用较高的特殊波形氧化电压进行阳极化处理，可在铝及其合金表面一层高硬度、耐磨、耐腐蚀性好，并且具有优异装饰性能的类陶瓷膜层。该膜层在组成、结构与常规氧化膜和微弧氧化膜均存在较大差异。 电化学沉积陶瓷膜氧化电压较高，高于普通阳极氧化，但远低于微弧氧化，且阳极化过程中不产生电火花。氧化过程中需要一个临界电流密度，若电流密度小于临界峰值电流密度，很难形成完整的类陶瓷膜层。峰值电流密度越大，成膜速度越快，类陶瓷膜层一旦在铝表面完成，电流快速下降，终在1-2A/dm2。 电解质为一种复合组分，一般由金属含氧酸盐、有机梭酸或无机酸、成膜促进剂等组成。各种组分在成膜过程中都起到一定作用，只有各组分的复配合联合作用才能形成优异膜层。电解温度对成膜影响不大，电解液温度从室温到60℃之间都可以优异膜层.本严格遵循相关法律法规规定，络，如有请告知。
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